‘2나노 선점’ 관건 하이NA, 인텔 1순위 도입 뒤쫓는 삼성 [말하는 기자들_산업_1010]
52나노 세계 최초 선점 타이틀을 거머쥐기 위해서는 초미세 공정을 가능케하는 최첨단 극자외선(EUV) 장비인 하이 뉴머리컬 어퍼쳐(High Numerical Aperture) 확보에 달렸다는 목소리가 높습니다. 때문에 삼성전자, TSMC, 인텔 중에서 누가 먼저 하이NA를 도입할지에 관심이 쏠립니다.
10일 관련 업계에 따르면 2나노 양산 최초 타이틀을 두고 경쟁하고 있는 삼성전자와 TSMC 그리고 인텔은 하이NA 장비를 생산하는 네덜란드 ASML과 긴밀히 협의하고 있습니다.
3사가 5~7나노 공정에서 사용하는 EUV 장비로도 2나노 칩을 생산할 수 있지만, 하이NA 장비를 도입하면 공정을 최대한 줄여 비용 절감이 가능해 수익성이 높아집니다.
하이NA는 ASML EUV 새 버전으로 1대 가격이 3천억원에서 5천억원에 이른다고 합니다.
해외IT매체 테크고잉에 따르면 켈러허 인텔 기술 개발 총괄책임자는 최근 "올해 하이NA 장비를 최초로 선보일 것"이라고 언급해 도입이 가장 이를 것으로 관측됩니다.
뉴스토마토 오세은입니다.
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